弊社では、半導体用フォトマスク／ブランクス製造で培った高精度のパターン形成技術を 応用した電子線描画装置に使用されるSi製アパーチャを開発し、長年の製造販売実績が 御座います。お客様のご要望に合わせて、Siへの成膜／エッチング加工／想定評価など 試作レベルからの受託サービスをご提供致します。 21.0 21.0μ μm テーパー角 テーパー角コントロールテクニックの コントロールテクニックの一例 Si 断面形状 （2.5μ 2.5μm L/S） L/S） 観察倍率 ：×5,000 テーパー角 テーパー角 ： 91.0° 91.0° 観察倍率 ： ×5,000 テーパー角 テーパー角 ： 90.2° 90.2° 観察倍率 ： ×5,000 テーパー角 テーパー角 ： 89.8° 89.8° EBリソプロセス EBリソプロセス品 リソプロセス品 フォトリソプロセス品 フォトリソプロセス品 EBリソプロセス EBリソプロセス品 リソプロセス品 測定倍率 ： ×100,000 コーナーR コーナーR値 ： 200nm 測定倍率 ： ×100,000 コーナーR コーナーR値 ： 40nm 測定倍率 ： ×100,000 LER値 LER値 ： 24nm 測定倍率 ： ×100,000 LER値 LER値 ： 21nm 100nm Dot （EBEB-nega） nega） 100nm Line （アパーチャ） アパーチャ） 200nm Line （SiO2） SiO2） 200nm Hole（ Hole（Si） Si） 3.58 3.58μ μm フォトリソプロセス品 フォトリソプロセス品 500nm 測定倍率 ： ×100,000 測定値 ： 100nm 測定倍率 ： ×100,000 測定値 ： 90nm 測定倍率 ： ×20,000 アスペクト比 アスペクト比 ： 3 測定倍率 ： ×30,000 アスペクト比 アスペクト比 ： 18 HOYA株式会社 マスク事業部 長坂製造課 技術グループ 〒408-8550 山梨県北杜市長坂町中丸3280 TEL：0551-32-7639 FAX：0551-32-5350 E-mail：mitsuru_takamizawa@sngw.els.hoya.co.jp (高見沢 充) 長坂事業所 長坂事業所 ・・成膜 成膜 ・・リソプロセス リソプロセス ・・ドライエッチング ドライエッチング ・・ウェットエッチング ウェットエッチング ・・洗浄 洗浄 ・・測定、 測定 測定、 検査 測定、、検査 八王子工場 八王子工場 熊本工場 熊本工場 プロセス 装置 対応サイズ 対応サイズ フォトリソ i線ステッパー 等倍アライナー 等倍アライナー Φ100～ 100～200mm EBリソ EBリソ 50kV電子線描画装置 50kV電子線描画装置 Φ100、 100、200mm 成膜 小型DC 小型DCスパッタ DCスパッタ（ スパッタ（試作用） 試作用） Φ150mmまで 150mmまで ドライエッチング RIE（ RIE（バッチ式 バッチ式） ICP（ ICP（枚葉式） 枚葉式） Φ100mm 成膜実績 ・Cr， Cr，Ta， Ta，W，Ir， Ir，Ti， Ti，Cu 等、及びそれらの窒化物 びそれらの窒化物・ 窒化物・酸化物等 ﾛｰﾗｰﾓｰﾙﾄﾞ 測定装置 ・膜厚、 膜厚、膜応力、 膜応力、シート抵抗 シート抵抗、 抵抗、表面粗さ 表面粗さ（接触/ 接触/非接触）、 非接触）、CD ）、CDCD-SEM等 SEM等 HOYA株式会社 マスク事業部 長坂製造課 技術グループ 〒408-8550 山梨県北杜市長坂町中丸3280 TEL：0551-32-7639 FAX：0551-32-5350 E-mail：mitsuru_takamizawa@sngw.els.hoya.co.jp (高見沢 充)
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