Sistemi di Processo

Catalogo Prodotti 2014
Prodotti
Gambetti
Sistemi
di Processo
Caratterizzazione
Superficiale
Prodotti
di Consumo
Strumentazione
Controll
di Processo
G. Gambetti Kenologia S.r.l.
Via A. Volta 27, 20082 Binasco (Milano)
Tel. +39 02 90093082 R.A.
Fax +39 02 9052778
info@gambetti.it
www.gambetti.it | www.plasmi.eu
Sistema e Gestione Qualità
UNI EN ISO 9001:2008
Non possiamo pretendere che le cose cambino,
se continuiamo a fare le stesse cose.
La crisi è la più grande benedizione per le persone e le
nazioni, perché la crisi porta progressi.
La creatività nasce dall’angoscia come il giorno nasce
dalla notte oscura.
È nella crisi che sorge l’inventiva, le scoperte
e le grandi strategie.
Chi supera la crisi supera se stesso senza essere “Superato”.
Chi attribuisce alla crisi i suoi fallimenti e difficoltà,
violenta il suo stesso talento e da più valore ai problemi
che alle soluzioni.
La vera crisi è la crisi delle’incompetenza.
L’inconveniente delle persone e delle Nazioni è la pigrizia
nel cercare soluzioni e vie d’uscita.
Senza la crisi non ci sono sfide, senza sfide
la vita è una routine, una lenta agonia.
Senza crisi non c’è merito.
È nella crisi che emerge il meglio di ognuno,
perché senza crisi tutti i venti sono solo lieve brezze.
Parlare di crisi significa incrementarla, e tacere nella crisi
è esaltare il conformismo, invece lavoriamo duro.
Finiamola una volta per tutte con l’unica crisi pericolosa,
che è la tragedia di non voler lottare per superarla.
Albert Einstein
Gambetti Kenologia
Vacuum technology and related solutions
Grazie a una brillante intuizione dei due
fondatori Glauco Gambetti e Clementina
Borghesani, nel 1974 nasce la Gambetti
Kenologia.
Da allora l’azienda opera con successo nella
vendita, distribuzione e assistenza in tutta Italia
di strumentazioni per le tecnologie del
vuoto e delle tecniche a esso correlate.
Nonostante la formula “siamo l’azienda leader
del settore” sia piuttosto inflazionata, ci
sembra comunque importante sottolineare
che la nostra Filosofia è da sempre quella di
selezionare, sul mercato mondiale, tecnologie
e aziende particolarmente innovative per
introdurle sul mercato nazionale.
I settori nei quali operiamo sono:
Sistemi al plasma da tavolo
Sistemi di Processo
Caratterizzazione Superficiale
Prodotti di Consumo
Strumentazione Controllo di Processo
Ben sapendo che i clienti sono il nostro
patrimonio, cerchiamo di mettere un alto livello
di attenzione nei rapporti con la clientela.
Riteniamo che la vendita di prodotti ad alto
contenuto tecnologico debba essere, prima di
tutto, una consulenza al cliente, cercando di
interpretare in primo luogo le necessità reali in
modo da veicolare la vendita su ciò che è più
utile e conveniente per il cliente in termini di
costo/prestazioni.
Disponiamo di uno staff di 16 persone in grado
di garantire alla clientela un accurato servizio
di assistenza pre e post vendita, oltre a un
reparto per la produzione di strumentazione da
noi progettata e sviluppata.
Sommario
Sistemi di Processo
7
Strumentazione Controllo di Processo
22
Oxford Instruments Plasma Technology
Ferrotec Temescal
Von Ardenne
Pink
8
10
12
12
MKS Instruments
KRI Kaufmann & Robinson
Ferrotec Temescal
23
25
25
Prodotti di Consumo
26
Kluber
Solvay Specialty Polymers
Materion
27
28
29
Sistemi al plasma da tavolo Gambetti
30
Sistemi a plasma
Sistemi a plasma multiuso
Componenti
32
33
34
Caratterizzazione Superficiale
13
Kla Tencor
Park System
Hysitron
Semilab
IBSS Group
Tescan Orsay Holding
Cressington
Ion Tof
VLSI Standard
14
15
16
17
17
18
20
21
21
Sistemi di Processo
8
Sistemi di Processo
Oxford Instruments Plasma Technology
Sistemi a elevate prestazioni per la rimozione,
incisione, deposizione e crescita, con sviluppo
dei relativi processi, di materiali utilizzati nelle
micro e nanotecnologie, in settori diversi
quali semiconduttori, optoelettronica, HBLED,
fotovoltaico, MEMS, microfluidica, ottica di
precisione e molto altro.
Le tecnologie disponibili comprendono: Plasma
Etch and Deposition, Atomic Layer Deposition, Ion
Beam Etching e Deposition, Nanoscale Growth.
La linea di prodotti comprende sistemi compatti e
flessibili stand alone, utilizzati in ambito di ricerca,
sistemi di produzione batch, cluster, cassette to
cassette per processi ad alta produttività.
Sistemi ALD
Sistemi Ion beam per etching e deposition
OpAL ALD Tool
ALD termico con opzione plasma in versione con caricamento manuale.
Sistema Ion Beam Optofab3000
Sviluppato specificamente per applicazioni ottiche ad alta
qualità.
FlexAL ALD Tool
ALD con plasma remote &
termico in un unico sistema
flessibile.
Sistema Ion Beam Ionfab500Plus
Sistema a fascio di ioni ad alta precisione deposizione,
sviluppato per il processo di grandi-batch.
Sistema Ion beam Ionfab 300Plus
Offre la flessibilità di effettuare etch e / o deposizione e
massimizzare l’utilizzo del sistema.
In alto OpAL ALD,
a sinistra FlexAL ALD.
Ionfab 300Plus
9
Sistemi plasma etching e deposition
PlasmaPro Estrelas100
Sistema per Deep Silicon Etch offre il massimo in termini di
flessibilità di processo.
PlasmaPro NGP1000
Sistema al plasma per grande serie
Soluzioni di produzione batch per il mercato HBLED.
PlasmaPro 800Plus sistema per Etch & Deposizione
Le soluzioni di grande capacità di processo open-loading
per etch e di deposizione plasma.
Sistema PlasmaPro System400 PVD
Sistema di sputtering magnetron per Physical Vapour
Deposition (PVD).
Sistema PlasmaPro System133 Etch & Deposizione
Sistema modulare per lavorazione di wafer.
PlasmaPro NGP80 Etch & Deposizione strumento
Sistema open-loading compatto per plasma etch e
deposizione.
Sistemi per la crescita in nanoscala
Sistema di crescita su nanoscala Nanofab700 e
Nanofab800 Agile
Crescita controllabile di nanotubi e nanofili con temperature
flessibili fino a, rispettivamente, 700° C e 800 ° C.
In alto PlasmaPro
Estrelas100,
a sinistra PlasmaPro
NGP80, in basso
PlasmaPro NGP1000.
10
Sistemi di Processo
Ferrotec Temescal
Temescal UEFC-5700
Duomo per lift-off
Impianti per evaporazione con cannone
elettronico per il deposito di film metallici o
ossidi e per applicazioni di lift-off nel settore della
Microelettronica, Fotonica e Telecomunicazioni.
Vasta gamma di impianti sia da ricerca sia
da produzione ad alta resa, con possibilità di
configurazioni speciali, per ottenere la massima
produttività nella deposizione dei metalli preziosi,
minimizzandone la perdita.
Nuovo
sistema
di
deposizione
Temescal
che consente di ottenere
uniformità sino a ora
possibile su sistemi di
deposizione con cannone
elettronico.
Grazie
al
particolare
design della camera, si
sono ottenuti benefici
nell’ottimizzazione
nei
processi di Lift-Off, oltre a basso deposito di materiale
sulle pareti del sistema, che consente un abbattimento
dei costi, quando si depositano metalli preziosi.
Temescal FC-4400
Sistema di produzione a
elevata produttività che
consente di processare
fino a 30 wafer da 150
mm di diametro.
Per avere veloci cicli di
pompaggio è possibile
installare 2 pompe criogeniche sul load lock, che
consentono di raggiungere il vuoto di processo in
soli 15 minuti.
11
Temescal FC-3800
Temescal FC/BCD-2000
Sistema ideale per la produzione per wafer fino a 150 mm
di diametro, per applicazioni come il lift-off o il rivestimento
di gradini; la capacità di carico è di 25 wafer per il processo
di lift of e di 36 wafer per il processo di rivestimento dei
gradini.
Sistema a campana, ideale per piccole produzioni o per
ricerca e sviluppo.
Temescal FC/BCD-2800
Sistema di medie dimensioni adatto sia per la produzione
sia per la ricerca e sviluppo su wafer di grandi dimensioni.
Questo impianto è completamente compatibile in clean
room, consente di poter avere una distanza tra il substrato
e i campioni di 866 mm oppure di 1076 mm.
L’evaporatore Temescal BJD-2000 e FC2000 sono sistemi
di evaporazione versatili, che possono essere equipaggiati
con un’ampia varietà di accessori per soddisfare la
maggior parte delle richieste.
In alto FC/BCD-2800, a destra FC/BCD-2000.
Disegnati per essere installati in clean room, questi sistemi
combinano il massimo della flessibilità, con la loro facilità
di utilizzo. Il sistema FC-2000 con load lock consente alla
sorgente di evaporazione di rimanere sotto vuoto durante
il carico e scarico dei substrati.
Sistemi di Processo
12
Von Ardenne
Impianti di evaporazione e sputtering per
applicazioni industriali e di ricerca, per la
deposizione di film sottili e ultrasottili, metallici e
dielettrici, utilizzabili in diversi settori applicativi
quali ottica, semiconduttori, elettro-ottica,
display, telecomunicazioni.
Impianti industriali ad alta produttività in-line
per il settore dei vetri per edilizia e automotive,
fotovoltaico, film flessibili, trattamenti superficiali
di nastri metallici, illuminotecnica.
Pink
Sistemi a plasma per attivazione superficiale,
di materie plastiche, materiali biocompatibili e
pulizia componenti.
Sistemi e tecnologie innovative per saldature voidfree sottovuoto per dispositivi semiconduttori
di potenza, moduli a circuiti ibridi e multichip,
packaging elettronico.
In alto Pink Vadu300,
a sinistra Pink camere
da UHV speciali.
Caratterizzazione Superficiale
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Caratterizzazione Superficiale
KLA-Tencor
Profilometri a stilo per la misura 2D e 3D
Profilometri ottici
Alpha step D-100, Alpha Step D-120
Profilometri entry level, consentono
scansioni 2D e 3D con controllo
della forza dello stilo fino a 0,03 mg
e possibilità di misure su Z di 1,2
mm. Disponibilità di soluzioni per
stitching e misura dello stress.
Ampia e assortita gamma di profilometri ottici
interferometrici per misure semplici, veloci e affidabili.
Profilometro meccanico a stilo P7
Profilometro di alta gamma per
campioni fino a 150/200mm
con gestione attiva della forza di
tastatura dello stilo, planarità di
scansione certificata, generazione
di sequenze semplici o articolate
di misura, soluzioni per elevata
produttività.
Profilometro meccanico a stilo P17
Profilometro di alta gamma per
campioni fino a 300mm con gestione
attiva della forza di tastatura dello
stilo, planarità di scansione certificata,
generazione di sequenze semplici
o articolate di misura, soluzioni per
elevata produttività.
Applicazioni: semiconduttori (monitoraggio CMP e
metrologia bump), scienza dei materiali (misura dei film
sottili, rugosità e misura dello stress), optoelettronica
(microlenti e diffusori), MEMS (analisi dei trench e della
velocità di attacco).
Aree applicative:
- Struttura della superficie
- Misura dei gradini
- Misura della forma
- Misura dello stress
- Biologiche
- MEMS
- Ricostruzione 3D
- Caratterizzazione dei materiali
I profilometri della gamma KLA
sono dotati di software Apex che
offre metodi avanzati di visualizzazione e analisi dei dati e delle
superfici; sicuramente il miglior
software di analisi di superficie
attualmente disponibile sul mercato.
Dall’alto: profilometro
ottico micro-XAM 100
e micro-XAM 800.
15
Park System
Microscopi a forza atomica
NX10 il più accurato e preciso AFM al mondo
L’NX10 rappresenta il nuovo punto di
riferimento tecnologico della gamma di
prodotti Park. Offre un impareggiabile
livello di qualità e accuratezza
dell’immagine, di velocità di scansione e
di conservazione della punta utilizzata
per la scansione, tutto questo in un
sistema dal prezzo accessibile. Utilizza
le più avanzate soluzioni tecnologiche
tra cui il True Non Contact ModeTM, la
più alta velocità di retroazione dell’asse
Z, elementi di scansione XYZ a elevatissima linearità e
materiali di costruzione termicamente autocompensanti
per minimizzazione delle derive termiche.
NX20 analisi della difettosità e controllo qualità per
campioni di gradi dimensioni
L’NX20 è l’unico AFM di fascia alta
per campioni di grandi dimensioni
che sfrutta la modalità True Non
Contact ModeTM che consente di
mantenere inalterata per un lungo
periodo la qualità della punta.
Con l’NX20 è possibile raccogliere
dati con la migliore accuratezza
e ripetibilità di misura disponibile
sul mercato, sia per misure di
rugosità che per il controllo della
difettosità. Offre inoltre la più
alta produttività è il più basso
costo di esercizio per l’intero intero ciclo vita preservando
ed estendendo la vita delle punte per periodi di esercizio
molto più lunghi rispetto a tecniche a intermittenza.
XE7 AFM da ricerca conveniente ed economico con
gestione del campione flessibile
Il modello XE7 è un AFM ideale per
chi cerca uno strumento flessibile
per ricerca e sviluppo ed è attento
al budget senza dover sacrificare
nessuna delle tecnologie peculiari
di Park. Lo strumento supporta
tutte le modalità di base e le opzioni
avanzate presenti sugli altri modelli
Park.
XE BIO AFM in liquido non a contatto con tecnologia
SCM
Un potente microscopio che su
una sola piattaforma integra tre
tecnologie: AFM con True Non
Contcat ModeTM, SICM (scanning
Ion Condutive Microscopy) e IOM
(inverted Optical Microscopy).
L’XE-Bio è stato realizzato per
acquisire immagini di campioni
biologici in liquido, prevalentemente
cellule e tessuti, potendo combinare
simultaneamente informazioni e
immagini dall’AFM dal SICM ICM e dal
microscopio ottico invertito. Queste tecnologie combinate
fanno si che XE-Bio sia lo strumento ideale per lo studio di
materiale cellulare in vivo e in condizioni fisiologiche.
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Caratterizzazione Superficiale
Hysitron
Hysitron® è una società leader nello
sviluppo e commercializzazione di sistemi di
caratterizzazione nanomeccanica sin dal 1992.
Hysitron ha introdotto tecnologie pioneristiche
quali la possibilità di ottenere immagini SPM insitu associate alle misure di nanoindentazione
e/o nanoscratch.
I suoi prodotti si sono sviluppati seguendo
principalmente l’evoluzione del mercato delle
nanotecnologie delle ultime due decadi.
Serie PI compatibile con SEM e TEM
Serie TI Tribointendenter
I modelli della serie TI sono
strumenti di tipo stand alone
che offrono sia la più ampia
flessibilità di gestione dei
campioni sia una vastissima
gamma di tecniche e accessori
implementabili. Gli strumenti
sono dotati d’isolamento termico
e acustico per garantire il più
alto livello di stabilità durante
l’esecuzione della misura e sono
proposti con l’elettronica della
serie performech® in grado
di raccogliere e gestire i dati
con velocità fino a 38kHz e con
velocità di retroazione fino a
78kHz.
Gli innovativi prodotti della serie PI consentono l’esecuzione
di misure nanomeccaniche all’interno di una camera SEM
o TEM potendo così correlare in tempo reale le misure
nanomeccaniche al comportamento topografico del
campione sottoposto a misura.
Inoltre è possibile l’utilizzo simultaneo dell’indentatore con
altre tecniche normalmente utilizzate nei SEM, quali l’EBSD
ad esempio, per lo studio in tempo reale della variazione
della struttura cristallografica in funzione dei carichi
applicati.
Serie TS Triboscope
I modelli della serie Triboscope possono essere interfacciati
con la maggior parte degli AFM commerciali estendendone
la possibilità di utilizzo anche per la caratterizzazione
meccanica.
Sono disponibili anche accessori e aggiornamenti del
modulo stesso quali mappature di modulo di Young, analisi
meccaniche dinamiche, delle emissioni acustiche, della
resistenza elettrica di contatto.
17
Semilab
IBSS Group
Ellissometro spettrale GES5E per analisi ottica di
film sottili e ultrasottili
La società IBSS Group è stata fondata da Vince
Carlino nel 2002 con l’intento di sviluppare
tecnologie specifiche per la rimozione in-situ di
contaminanti organici nelle camere a vuoto di
microscopi SEM, TEM, XPS, ecc...
In particolare nel 2007 il gruppo IBSS ha realizzato
e brevettato un prodotto unico, il GV10x, oggi
sorgente al plasma di riferimento per la rimozione
in situ di contaminanti organici.
Il Sistema GES5E rappresenta oggi il cuore tecnologico
e il prodotto di punta della Semilab nella gamma degli
Ellissometri Spettrali grazie a un avanzatissimo design
optomeccanico e all’elettronica ad alte prestazioni.
Tra i vantaggi più significativi di questa piattaforma
riportiamo la possibilità di eseguire misure in alta
risoluzione e veloci utilizzando lo stesso hardware.
Inoltre sono possibili misure in Trasmissione e Riflessione,
Scatterometria, Luminescenza.
L’intervallo
spettrale
standard va dai 230 a
900nm può essere esteso sia nel DUV sia nel
NIR ed è inoltre possibile utilizzare accessori
quali celle per liquidi, riscaldanti, criostati ecc...
Il GES5E è ampiamente
utilizzato nei laboratori
di ricerca e nelle università per la caratterizzazione dei film sottili
utilizzati in settori applicativi quali: semiconduttori, ottica, telecomunicazioni, fotovoltaico, chimica, biologia ecc...
Sorgente downstream GV10x
Il plasma downstream GV10x consente di ridurre le
contaminazioni da idrocarburi e carbonio da 10 a 20 volte
più velocemente rispetto a sistemi tradizionali con vuoto
da pompa rotativa.
Nello specifico la pompa turbomolecolare del sistema
analitico può essere utilizzata con questo sistema senza
nessuna limitazione e senza interrompere il software di
controllo dello strumento su cui è installato (SEM, FIB, TEM.
XPS ecc...).
ibss Group inc.
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Caratterizzazione Superficiale
Tescan Orsay Holding
La società Tescan è un fornitore globale di
microscopi elettronici a scansione SEM.
Attività principale della società, oltre alla
commercializzazione dei propri prodotti, è
un’intensa attività di Ricerca e Sviluppo orientata
a una costante introduzione sul mercato
d’innovative soluzioni tecniche di elevate
prestazioni.
SEM Vega con emettitori termoionici (W, LaB6)
La serie Vega è giusta alla sua terza edizione ed è
progettata per rispondere a un vasto assortimento di
richieste analitiche. E’ disponibile sia con emettitore al
W sia con LaB6 e con camere di dimensioni variabili,
dalla più piccola SB alla camera gigante GM sia in alto
sia in basso vuoto.
Sistemi a doppio fascio, elettronico e ionico, serie
Lyra
La serie Lyra è stata realizzata per rispondere alle svariate
necessità e applicazioni espresse dal mondo della ricerca e
sviluppo accademica e industriale. L’eccellente risoluzione
elettronica e le alte correnti disponibili consentono un
proficuo utilizzo di tecniche analitiche quali EDX, WDX, EBSD
o di applicazione di litografia
elettronica. Il fascio ionico è
utilizzato per la preparazione
di lamelle TEM, deposizione
di materiali ed esecuzione di
procedure complesse quali la
ricostruzione tomografica 3D.
SEM Mira e Maia con emettitori a emissione di campo
(FEG)
Microscopi a emissione di campo progettati per
l’ottenimento d’immagini ad alta risoluzione spaziale.
La serie Mira è un SEM FEG ad ampio spettro di utilizzo
imaging, litografia elettronica, configurazioni analitiche
ecc... La serie Maia invece è rivolta invece ad applicazioni
di imaging in UHR in particolar modo per i settori dei
semiconduttori e della biologia. Questi microscopi sono
dotati di un’elettrottica particolarmente sofisticata che
rendono l’esperienza d’uso degli stessi facile e intuitiva.
Sopra Vega XMU, a destra in alto
esemplare serie Lyra,
in basso serie Mira.
19
Sistema a doppio fascio FERA 3 Plasma FIB
Sistema TIMA Tescan Integrated Mineral Analyzer
Il modello Fera 3 introduce un nuovo e rivoluzionario
concetto tecnologico.
Questo sistema integra per la prima volta un fascio
elettronico di tipo FEG con una sorgente ionica al Plasma
di Xe a elevatissima densità che consente di incrementare
la velocità di attacco e taglio dei materiali di circa 50 volte
rispetto a una sorgente convenzionale a ioni di Gallio.
In questo modo diventa possibile rimuovere molto
velocemente volumi di materiale impensabili prima
dell’introduzione di questa tecnologia aprendo la
possibilità di nuove e importanti applicazioni nel settore
dei semiconduttori, dei MEMS e dei materiali in genere.
Il TESCAN Integrated Mineral Analyzer (TIMA) è una
soluzione hardware e software completa per l’analisi
automatizzata di minerali per l’industria mineraria.
Il TIMA misura
l’abbondanza
del minerale, la
dimensione del
grano, le associazioni, le sezioni
sottili e lucidate.
Il livello di integrazione software e hardware
tra SEM ed EDX
consente elevatissime velocità
di acquisizione
e di raccolta dati
per una valutazione rapida e affidabile delle modalità di ricerca ed estrazione dei minerali stessi.
Tecniche accessorie integrate nei prodotti Tescan
In alto a sinistra FERA3-GM con TOF SIMS,
a destra TIMA con autoloader.
La microscopia elettronica a scansione è una metodologia
d’indagine che si avvale da sempre di tecniche di supporto
e/o complementari. La piattaforma hardware e software
dei prodotti Tescan è stata realizzata con una architettura
aperta per facilitare e massimizzare la possibilità di
utilizzo e integrazione di tecniche accessorie consolidate
o emergenti. Tra quelle già proposte e integrate da
Tescan citiamo la litografia elettronica, l’analisi tof – sims,
l’afm, la catodoluminescenza pancromatica e spettrale, la
spettroscopia Raman, ecc...
Possiamo installare qualsiasi sistema EDS, WDS ed EBSD
delle principali aziende produttrici quali Bruker Nano, Edax
Tsl, Oxford Nanoanalysis, Thermo Scientific.
20
Caratterizzazione Superficiale
Cressington
Sistemi di metallizzazione per la preparazione dei
campioni per la microscopia elettronica.
Ampio assortimento di modelli, materiali
e accessori che consentono di adattare le
caratteristiche dei film deposti a una vastissima
varietà di campioni sia per esigenze di imaging
che microanalitiche.
Compatti, economici e semplici da utilizzare,
offrono tempi ridotti di pompaggio e livelli di
riscaldamento del campione trascurabili.
208HR Metallizzatore per alta risoluzione
Le sue caratteristiche principali sono:
• Ampia scelta di materiali da deposizione: il raffinato
progetto della testa magnetron e l’efficiente sistema
della gestione del gas consentono di utilizzare una
vasta gamma di target da sputtering
• Raffinato controllo dello spessore deposto: il film
deposto è ottimizzato per i microscopi FEG utilizzando
il controllore di spessore MTM-20 ad alta risoluzione
108 auto Sputter Coater
Lo sputter coater della serie 108 auto può essere usato in
modo automatico o manuale. Il sistema permette inoltre di
poter effettuare il rientro in camera del gas alla pressione
atmosferica in automatico con un gas inerte o non a
seconda delle preferenze del cliente.
108 Carbon Coater
Il metalizzatore 108carbon/A utilizza una innovativa
sorgente di evaporazione. La tensione e la corrente sono
monitorate da un sensore a filo, inserito all’interno della
testa di evaporazione, grazie a questo accorgimento la
sorgente è controllata come parte del ciclo di retroazione.
Inoltre utilizzando le barre in grafite si riesce a garantire
una elevata stabilità e riproducibilità nella deposizione.
CRESSINGTON
208HR
208carbon Carbon coater per alto vuoto
Il metalizzatore 208carbon rappresenta il più avanzato
metalizzatore per applicazioni quali TEM, SEM e microsonde.
Il suo progetto di tipo modulare consente una rapida
modifica della configurazione garantendo così una
impareggiabile flessibilità. Alimentatore della sorgente
elettronica completamente integrata, con controllo della
potenza di tipo a retroazione.
21
ION TOF
VLSI Standard
Raffinatissimi sistemi di analisi di superficie basati
sulla spettrometria di Massa a Tempo di Volo.
La tecnica fornisce informazioni sia elementari
sia molecolari di superfici, film sottili, interfacce
e di volumi.
Leader mondiale nella produzione di standard
di calibrazione per profilometri, microscopi
elettronici a scansione, AFM, elissometri,
misuratori di stress o di resistività, con tracciabilità
NIST.
È applicabile in svariati settori quali
semiconduttori, polimeri, vernici, rivestimenti,
biomateriali, metalli, ceramiche, ecc...
La rivoluzionaria tecnica LEIS, recentemente
sviluppata e introdotta sul mercato, permette il
riconoscimento delle specie elementari presenti
nel solo strato atomico superficiale, rendendola
così estremamente importante per lo studio di
processi catalitici o per la crescita di film sottili.
Dall’alto: nanoCD standard, nanolattice standard per
litografia, standard per misura dello spessore.
In alto a sinistra Sistema di analisi di superficie TOF SIMS 5.
Standards
Strumentazione Controllo di Processo
Strumentazione Controllo di Processo
23
MKS Instruments
Misura e controllo della pressione
La gamma di prodotti per il controllo
della pressione di MKS Instruments è
molto vasta: si va dai manometri capacitivi
Baratron™ per arrivare alle differenti
versioni di strumenti di misura e controllo
della pressione, sia analogici sia digitali e a
valvole; MKS offre la qualità più elevata negli
strumenti per il controllo della pressione in
ingresso e uscita al vostro processo.
Spettrometria di massa e analisi gas residui
I prodotti per l’analisi del gas MKS sono strumenti
per il monitoraggio del processo in-situ innovativi,
completamente integrati e con pacchetti specifici per le
diverse applicazioni.
Includono analizzatori di gas residui (RGA) anche in versione
da processo, gestibili attraverso internet, per applicazioni
di ricerca delle fughe, per sistemi analitici e software di
controllo.
In alto
Baratron assoluto,
a fianco Quadrupolo
Evision.
In alto a destra FTIR
Integrato MGS300,
in basso Misuratore
di vuoto serie 900.
Te c h n o lo g y f o r P r o d u c t i v i t y
Analizzatori FTIR / NDIR
Strumenti per l’analisi in tempo
reale e in linea, a infrarosso da
trasformata di Fourier e non
dispersiva, in grado di analizzare
accuratezze che vanno dai
ppb a ppm, per monitorare
simultaneamente speci multigas
che includono NF3, NH3, H2, NO
e N2O, oltre a gas con fino al 30%
di H2O.
Tecnologia del vuoto
La vasta gamma di componenti da vuoto, valvole, teste,
sottosistemi di gestione effluenti e camere da vuoto
progettate su specifica, offre soluzioni differenti ai problemi
di contaminazione e di degasaggio dei sistemi.
I componenti da vuoto di MKS Instruments includono
riscaldatori per line pre-vuoto, trappole e teste per
applicazioni in cui sia richiesta la misurazione diretta e
indiretta della pressione in tutto il range del vuoto.
MKS offre inoltre
una linea completa di componenti
progettati per applicazioni con elevati
livelli di purezza, in
applicazioni biotecnologiche; oltre a
camere da vuoto
su disegno, componenti e insiemi elettromeccanici per le industrie del settore
solare, dei semiconduttori e medicale.
Strumentazione Controllo di Processo
24
Misura e controllo di flussi
Generatori DC e RF
La famiglia di prodotti per la gestione dei flussi di gas
include misuratori di flusso massici, verificatori in situ di
flusso, controllori del rapporto di flusso che dividono in
modo accurato e ripetibile i flussi di gas in flussi precisi ai
diversi punti del processo.
I MFCS sono disponibili in versioni analogica o digitale, a
bus di campo e Profibus™.
Permettere ai nostri clienti di portare i loro prodotti e i loro
processi sul mercato in modo più celere, più affidabile e più
conveniente è il cuore della filosofia del progetto della linea
di controllo e regolazione dei flussi.
MKS è azienda leader nella produzione di generatori radio
frequenza (da media ad alta frequenza) a stato solido,
affidabili e compatti.
Questa linea di
prodotti
include
reti d’adattamento
d’impedenza, metrologia del plasma,
generatori DC pulsati o in continuo,
il livello di potenza
sino a 60KW per
applicazioni avanzate di Thin Film.
MKS produce inoltre amplificatori RF con elevati livelli di
affidabilità per macchine per risonanza magnetica.
Sistemi di ozono
In alto descrizione prodotto, in alto a destra Generatore
Elite RF 13,56 MHz.
Sorgenti al Plasma
MKS progetta e produce sorgenti a plasma da
radiofrequenza e microonde, per energizzare e dissociare
i gas.
Vengono utilizzati gas a base di fluoro (come NF3) per pulire
le camere da processo da elementi non desiderati che si
depositano sulle pareti della camera stessa. Le sorgenti
a plasma per chimiche di processi includono ossigeno,
idrogeno e azoto.
MKS offre uno spettro completo di prodotti per creare
e rilasciare ozono in elevata concentrazione e flussi,
ultrapulito e altamente affidabile in un processo.
La famiglia di generatori di ozono include modelli compatti,
ad alte concentrazioni e sottosistemi di rilascio di ozono
in loop chiuso; sottosistemi di delivery di ozono liquido in
alte concentrazioni, sistemi di igienizzazione con ozono,
e accessori per miscelazione del flusso e distruzione di
ozono.
Altre divisioni di MKS
• Raccolta Dati e Analisi
• Sistemi di controllo
• Prodotti per Microonde
25
KRI Kaufmann & Robinson
Ferrotec Temescal
Azienda fondata da Dr. Kaufman e Dr. Robinson
per la produzione di sorgenti ioniche senza griglie
“greidless”, sorgenti con griglie e sorgenti RF per
applicazioni ion preclean, ion assisted deposition,
ion direct deposition, ion etching.
Cannoni elettronici da evaporazione in
configurazione singolo crogiuolo, multicrogiuolo
rotante, rod fed, alimentatori a stato solido fino
a 15 KW, completi di tutti gli accessori necessari
come sweeper, controllore del cannone, passanti,
per la realizzazione di un sistema da deposizione
con cannone elettronico.
KRI è una società specializzata nello sviluppo,
produzione e vendita di sorgenti ioniche per il
settore dei film sottili, sia ricerca e sviluppo sia
industriali.
Negli ultimi 30 anni KRI ha sviluppato una vasta
gamma di sorgenti a fascio di ioni, tra cui la
versatile EH1000 che può essere considerata
come una continuazione del successo della MKII.
KRI è l’inventore e titolare del brevetto della
gridless End-Hall Technology.
Cannone STIH-270-3CK
Sorgente EH 3000
con hollow cathode
Attualmente KRI detiene 23 brevetti nella
tecnologia del fascio ionico con altri 10 brevetti in
corso di approvazione.
Prodotti di Consumo
27
Prodotti di Consumo
Klüber
Soluzioni specifiche per la lubrificazione
Grassi
Klüber Lubrication e G. Gambetti Kenologia sono
partner per la lubrificazione nella tecnologia del
vuoto.
I grassi fluorurati Klüber sono chimicamente inerti, pertanto
il loro utilizzo è fortemente consigliato nelle applicazioni
dove sia richiesta una resistenza alla corrosione o alla
ossidazione e dove si richiedono grassi ad alte prestazioni
in condizioni estreme in presenza di ossigeno e umidità.
Grazie a oltre 80 anni di esperienza e
un’approfondita competenza tecnica, Klüber
Lubrication è uno dei leader mondiali nel campo
dei lubrificanti speciali.
Klüber Lubrication offre oltre 2 mila prodotti
diversi per specifiche applicazioni in pressoché
tutti i settori industriali.
G. Gambetti Kenologia ha scelto i lubrificanti
speciali Klüber Lubrication per impieghi nelle
pompe per vuoto suddivisa per tipologia e
condizioni di esercizio.
La collaborazione tra Gambetti Kenologia S.r.l. e
Kulber è nei settori del vuoto, nei gas tecnici, e
nei centri di ricerca e sviluppo.
I grassi Klüber comprendono i prodotti della serie
Klübertemp® GR e Klüberalfa® GR quali: RT15, CR 862, UT
18, Y VAC 3, YNX, ZNF, AR555, OT 20
Oli sintetici e fluorurati per pompe da vuoto
Kluber produce una vasta gamma di oli minerali, sintetici e
florurati per la lubrificazione delle pompe da vuoto studiati
in maniera specifica per la seguente tipologia di pompe:
•
•
•
•
Pompe a Palette
Pompe diffusione
Pompe a lobi
Pompe turbomolecolari
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Prodotti di Consumo
Solvay Specialty Polymers
Solvay Specialty Polymers è il nuovo nome dato
a questa divisione del gruppo Solvay, leader
nel settore dei prodotti fluorurati, dove detiene
numerosissimi brevetti depositati.
Solvay Specialty Polymers è produttrice del fluido
lubrificante Fomblin, che trova applicazione nei
settori più avanzati della tecnologia industriale
quali semiconduttori ed elettronica, processi
chimici, trattamento delle superfici, farmaceutica,
edilizia e architettura, materiali per il settore
cavi e connettori, industria automobilistica e
aerospaziale, cosmesi e molto altro ancora.
Il gruppo Solvay, con cui la Gambetti collabora
con successo da ormai 10 anni, è presente in
Italia con diverse aree produttive e di ricerca e
sviluppo.
Linea Fomblin
I Fomblin sono polimeri sintetici a struttura polieterea,
liquidi a temperatura ambiente e costituiti unicamente da
fluoro, carbonio e ossigeno.
Caratteristiche principali
• Solubilità bassa o nulla in acqua e nei più comuni
solventi organici
• Resistività elettrica elevata
• Compatibilità con un ampio spettro di materiali
(plastiche, metalli, elastomeri...)
• Buon indice di viscosità
• Infiammabilità nulla
• Range molto esteso di temperature operative
(-90 ; + 230 °C )
• Bassa volatilità
• Zero ODP
• Tossicità nulla
Linea Galden
Galden D, LS, HS, HT
Fluido utilizzato nelle applicazioni come la saldatura in fase
di vapore, nei test elettronici e come fluido di trasferimento
del calore (chillers, trasformatori elettrici).
Galden SV
Fluidi per il lavaggio che sostituiscono i tradizionali CFC.
Fomblin VAC
Fluidi per pompe da vuoto nel settore dei semiconduttori.
Fomblin LOX e LC
Fluidi con un grado di sicurezza eccezionale nelle
applicazioni dove si è a contatto con l’ossigeno liquido ad
alta pressione.
Fomblin Z
Lubrificante speciale per le applicazioni aerospaziali.
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Materion
Materion si occupa dal 1964 della produzione
di specialità chimiche inorganiche, prodotti per
l’evaporazione sotto vuoto e PVD. Ha conosciuto
nel corso di tutti questi anni una solida e rapida
crescita, resa possibile dalla diversificazione dei
prodotti e dei mercati a cui si è rivolta.
Materion ha identificato alcuni settori dove
concentrare il proprio campo d’azione
riscuotendo un notevole successo: l’industria dei
semiconduttori, il settore aerospaziale, ottica di
precisione, oftalmica, tecnologie laser e display,
offrendo sia prodotti standard che personalizzati.
Target per Sputtering
La G. Gambetti Kenologia Srl, quale agente esclusivo della
Materion per l’Italia, dispone, già a catalogo, di oltre 500
diverse composizioni di target (metalli, ossidi, fluoruri,
solfuri, nitruri, leghe, tellururi, siliciuri, boruri, carburi);
qualora vi occorra un target con caratteristiche non
standard, la Materion è sicuramente in grado di soddisfare
questa vostra esigenza.
Prodotti da Evaporazione
La Materion è altamente specializzata nella produzione
di prodotti per evaporazione sotto vuoto ed è in grado di
offrire un’ampia gamma di materiali disponibili a catalogo.
Grazie all’esperienza specifica maturata nel corso degli
anni, Materion, oltre a disporre di una linea completa di
prodotti standard, è in grado di produrre materiali speciali
su richiesta del cliente.
Specialità Chimiche Inorganiche
Materion dispone di una vasta gamma di metodi di
preparazione per poter offrire alla clientela qualsiasi tipo
di materiale inorganico e soddisfare ogni tipo di esigenza.
Dal metodo classico di sintesi per via umida, alla
preparazione sotto vuoto in alta temperatura, fino ai forni a
gas reattivi, Materion mette a vostra disposizione impianti,
tecniche e capacità per preparare migliaia di composti.
A sinistra in alto Materion Target per il settore fotovoltaico,
in basso Materion Target per large area coating.
Sistemi al plasma da tavolo
Sistemi al Plasma da tavolo Gambetti
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Gambetti Kenologia
La Gambetti Kenologia si occupa da più di tre
decenni di prodotti ad alta tecnologia nel settore
delle tecnologie in alto vuoto, in quello analitico e
nella caratterizzazione superficiale.
Recentemente ha iniziato a produrre piccoli
sistemi a plasma da laboratorio, con relativi
accessori. Questi sistemi sono studiati per fornire,
a prezzi ragionevoli, sia ai laboratori di ricerca sia
alle industrie, la messa a punto dei processi per
l’attivazione di superfici plastiche o metalliche.
La successiva industrializzazione è possibile con
impianti dedicati.
Alcuni esempi di applicazioni
Semiconduttori
• Rimozione del photoresist (stripping) e dei residui
dello stesso (descumming), polimero fotosensibile
utilizzato nei processi fotolitografici di mascheratura
• Rimozione isotropica di polimeri organici (per esempio
Poliammidi, ecc...) e Ossidi/Nitruri di Silicio
• Pulizia prima del wire bonding (sia dei bond pads sia
dei chip carriers)
• Industria tessile
Industria tessile*
Pulizia e modifiche superficiali per l’ottenimento di superfici
idrofiliche prima della colorazione o stampa su fibre naturali
e sintetiche.
* Solo per ricerca e sviluppo e non per produzioni in continuo.
Solare (PV)
• Rimozione isotropica di nitruro di silicio per
isolamento dei bordi cella
• Rimozione isotropica di silicio amorfo o cristallino
• Possibilità di processare singole celle o lotti di celle
(in funzione delle dimensioni e capacità massima del
sistema)
• Testurizzazione superficiale del silicio (mono e multi
cristallino) per ridurre la riflettività e aumentarne
l’efficienza
Bio medicale
Pulizia e modifiche superficiali per l’ottenimento di
superfici idrofiliche oidrofobiche, utilizzabili per esempio
nei seguenti campi applicativi:
• filtrazione selettiva di fluidi biologici
• impianti protesici (aumento della bagnabilità per una
più veloce osteointegrazione)
• incollaggi tra materiali diversi (esempio aghi su
siringhe, cateteri, ecc...)
• pulizia finale rimozioni dei residui organici a livello
atomico dopo i classici lavaggi industriali
• lenti a contatto e intraoculari
• stent cardiovascolari per rilascio controllato del
farmaco
• pulizia finale dei vials per liquidi
Ottica e Oftalmica
Pulizia finale a livello atomico e pre-trattamento dopo i
lavaggi industriali per migliorare l’adesione di rivestimenti
antiriflesso, antigraffio e vari; polimerizzazione di strati
antigraffio e antiappannamento.
Beni culturali
Trattamenti fungicidi e antibatterici per il recupero e la
conservazione di libri e vetrate antiche.
Sistemi al Plasma da tavolo Gambetti
Industria della plastica
Pulizia e modifiche superficiali utilizzabili ad esempio nei
seguenti campi applicativi:
• incollaggio tra materie plastiche o di materie plastiche
con altri materiali
• attivazione prima della verniciatura, con eliminazione
dell’uso di primers chimici
• bagnabilità delle superfici per migliorare la qualità
della stampa
• rimozione di residui di distaccanti dopo lo stampaggio,
per facilitare la stampa o verniciatura
• rimozione di contaminanti e residui organici
• fluorizzazione delle superfici per modifica delle
caratteristiche funzionali
Meccanica di precisione
Pulizia e modifiche superficiali utilizzabili per esempio nei
seguenti campi applicativi:
• incollaggio tra materie plastiche o di materie plastiche
con altri materiali
• attivazione prima della verniciatura, con eliminazione
dell’uso di primers chimici
• bagnabilità delle superfici per migliorare la qualità
della stampa
• rimozione di residui di distaccanti dopo lo stampaggio,
per facilitare la stampa o verniciatura
• rimozione di contaminanti e residui organici
• fluorizzazione delle superfici per modifica delle
caratteristiche funzionali
• pulizia finale a livello atomico di superfici metalliche e
ceramiche dopo lavaggi industriali per migliorarne la
verniciabilità o per altri tipi di rivestimenti (es. PVD)
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Sistemi al Plasma
Heron 80
Heron 80 è il nuovo reattore delle
linea di plasmi da laboratorio, nato
grazie alla lunga esperienza della
Gambetti Kenologia in questo
settore.
È un sistema semplice e di facile
utilizzo, pensato per chi abbia la
necessità di rimuovere il resist, pulire,
modificare o attivare superfici di
materiali metallici, plastici, ceramici,
o cartacei.
Ideale per Ricerca e Sviluppo o per
medie produzioni.
Specifiche tecniche
Volume della camera: 25 litri ca.
Dimensione della camera: 290 mm (D)x340mm (P)
Elettrodo: di tipo concentrico con gabbia perforata
Alimentatore: RF 13,56 MHz 750 Watt con matching
network automatica
Dimensioni del rack: 1750 mm (H) x 700 mm (W) x
600 mm (D)
Aria compressa: 2-6 Bars, filtrata
Ingresso gas: 2 ingr. standard (+ 1 opzionale), 1/4 fittings
Porta campioni: disponibili su richiesta diversi tipi di
portacampioni
Alimentazione: 230 Vac/ 32 Amp, singola fase, 50 Hz
Peso della camera: 130 Kg ca. (senza pompa)
Pompa da doppio stadio Fomblinizzata: 40 m3/h
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Sistemi a Plasma Multiuso
Tucano e Colibrì nascono grazie alla esperienza ventennale
della Gambetti Kenologia nel settore del vuoto e dei plasmi.
Si tratta di sistemi a plasma da tavolo, semplici e di facile
utilizzo.
Destinati a chi abbia la necessità di pulire, modificare o
attivare superfici di materiali metallici, plastici, ceramici
o cartacei. Ideali per Ricerca e Sviluppo o per piccole
produzioni.
Tucano
Colibrì
Specifiche tecniche
Specifiche tecniche
Volume della camera di alluminio: ~ 5,5 litri
Volume della camera di alluminio: 2 litri
Dimensione della camera: Ø 150 mm L 330 mm
Dimensione della camera: Ø 100 mm L 280 mm
Elettrodo: con dark shield
Elettrodo: con dark shield
Ingombro box e peso: 450 mm L 280 mm H 440 mm P ~25 kg senza la pompa
Ingombro box e peso: 450 mm L 180 mm H 370 mm P ~18 kg senza la pompa
Valvola regolazione gas: Swageklock manuale opzionali 2 Mass Flow Controller
Valvola regolazione gas: Swageklock manuale opzionali 2 Mass Flow Controller
Generatore: 50 KHz 200 Watt - opzionale 13,56 MHz
200 Watt
Generatore: 50 KHz 200 Watt - opzionale 13,56 MHz
200 Watt
Alimentazione: 110 V– 60 Hz e 220 V - 50 Hz
Alimentazione: 110 V–60 Hz e 220 V - 50 Hz
Sistemi al Plasma da tavolo Gambetti
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Componenti
Vantaggi
GGK-RF 15 alimentatore RF 13,56 MHz*
Nuovo Design: questo generatore utilizza componenti
allo stato dell’arte quali il driver ad alte prestazioni, uno
stadio di uscita di classe E e un modulatore switching per
un preciso controllo della potenza.
L’unità è costruita da 2 schede PCB, senza cablaggio.
Questo aumenta l’affidabilità e riduce le dimensioni fisiche.
Flessibilità: la Gambetti Kenologia è disponibile a
effettuare version customizzate, quali lo scaling del segnale
di controllo o altre frequenze in aggiunta ai 13.56 MHz,
stabilità di uscita su qualsiasi carico.
Generatore 13.56 MHz da 200 Watt, per applicazioni in
plasma.
Il generatore RF15 rappresenta sul mercato la soluzione
più compatta e affidabile di generatore RF, in questo range
di potenza.
È stato progettato per essere utilizzato in piccolo sistemi
a plasma e sputtering. Grazie alla sua compattezza, può
essere, in molti casi, montato molto vicino alla camera di
processo. La progettazione moderna, unitamente all’alto
livello di integrazione dei component interni consentono di
venderlo a un prezzo molto vantaggioso.
Specifiche tecniche
Dimensioni: molto compatto 220x180x80mm 2,5 kg
Frequenza: 13.56 MHz stabilizzato al quarzo
Alta efficienza: lo stadio di uscita è efficace all’85% per
convertire DC a RF; questo significa che è necessario un
minimo raffreddamento
Completa protezione all’uscita: questa unità può
lavorare su tutti i tipi di carico senza problemi, inclusi
corti circuiti e circuiti aperti per un tempo illimitato; il
limite WSVR è di 50Watt. Questo rende il generatore una
soluzione ideale per l’utilizzo in combinazione con la rete
d’adattamento modello GGK_MM2.
Interfaccia utilizzatore: di tipo D-Type a 15 pin, con
segnali analogici (setpoint, lettura della potenza FRW e
della potenza REV) tutti scalati a 10V. I segnali digitali di
controllo sono livelli standard a 24V. Fornito di allarmi.
Disponibile anche il pannello di controllo remote
(opzionale).
Raffreddamento: ad aria tramite una ventola interna da
50 mm. La ventola si accende solo in presenza di RF.
* Disponibile con il pannello di controllo remote opzionale
Tolleranza della regolazione: migliore di 3% a fondo
scala su 50ohm di carico.
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GGK-LF Generatore 50KHz*
Si tratta di una sorgente AC con frequenza di 50Khz per
plasma, a basso costo e molto compatta.
Il sistema fornito include il trasformatore di adattamanto
con 3 prese intermedie selezionabili dall’utente e una
completa circuitazione di misura 2500 ohm, selezionando
una delle 3 possibili configurazioni per il trasformatore di
uscita.
L’alimentatore è disponibile in due versioni, la prima con
display e unità di controllo integrata, la seconda versione
è nella versione black box ideale per chi voglia controllare
l’alimentatore via PC o PLC, per questa versione è anche
diponibile il controllore remoto GGK LF/RF.
Il sistema fornisce 500 watt@50 Khz, ed è possibile
l’adattamento di impedenza da 150 a 2500ohm,
selezionando una delle 3 possibili configurazioni per il
trasformatore di uscita.
In alcune applicazioni, questo generatore può essere
utilizzato in sostituzione all’RF, con costi sensibilmente
inferiori e con minori problemi di messa a punto.
Questo generatore rappresenta un’alternativa ideale nelle
applicazioni di Glow Discharge, rispetto alle sorgenti DC ad
alta tensione. La scarica è molto più stabile e non si ha la
formazione di cariche localizzate.
Può essere utilizzato per lo sputtering di target di materiali
conduttivi o per applicazioni in PECVD.
Specifiche tecniche
Dimensioni: molto compatto 310x95x150 mm. 2 kg ca.
Connessione: diretta all’elettrodo; non è richiesta alcuna
rete d’adattamento.
Potenza: 500W disponibile in un range d’impedenza
di 3 a 1 senza la necessità di regolazione delle prese
intermedie del trasformatore.
Sistema di misurazione: accurato e completo, tensione
RMS, DC selfbias, letture della potenza disponibili sul
connettore user.
Arc detection: rilevazione e spegnimento attivo degli
archi (soppressione).
Efficienza: elevata >90%
Protezioni: sovratemperatura, sovratensione, limitazione
della potenza d’uscita.
Sistemi al Plasma da tavolo Gambetti
Rete di adattamento automatica o manuale
In ogni sistema al plasma la rete d’adattamento costituisce
un componente critico. Lo scopo dell’adattatore è di
trasformare l’impedenza, complessa e variabile del carico
del plasma, in 50 ohm resistive attraverso la linea di
trasmissione (cavo coassiale) e di far operare il generatore
in modo efficiente.
Produciamo attualmente una linea di reti d’adattamento
manuali e automatiche per HF (13.56 MHz) in versioni
anche personalizzate.
Qualità e selezione dei componenti
La componente più critica in ogni rete d’adattamento è
rappresentata dagli elementi a reattanza variabile.
La Gambetti Kenologia utilizza condensatori variabili in
aria di alta qualità, dotati di doppio contatto strisciante per
correnti fino a 3000Volts.
Al di sopra di questo limite, vengono utilizzati i condensatori
in vuoto Comet.
Per livelli di potenza sino a 1Kwatt, i condensatori in aria
sono generalmente la soluzione migliore: si muovono più
velocemente, in rapporto ai modelli in vuoto, e la sintonia
può essere ottenuta in meno di 2 secondi.
GGK-AM1 è la versione di punta delle nostre reti
d’adattamento, robusto, molto affidabile e con al suo interno
tutte le soluzioni necessarie a rendere l’installazione, la
configurazione e il funzionamento facili e immediati.
Considerando che l’impedenza del plasma è solitamente
ignota, abbiamo compiuto notevoli sforzi progettuali per
dare una configurazione del tuner rapida: sono disponibili
diverse configurazioni della bobina.
La bobina standard è realizzata con un tubicino di rame
da 6 mm rivestito in argento, con 4 prese intermedie
configurabili. Disponibile da 3-4-5-6 spire. Lo strumento è
dotato di fori e staffe per il montaggio per assemblare fino
a 3 condensatori fissi di pad.
Caratteristiche e Vantaggi
Possibilità di preset
Entrambi i canali di posizionamento dei condensatori
possono lavorare in modo indipendente in modalità
AUTO – HOLD – PRESET. Questa flessibilità è una
caratteristiche esclusiva della rete di adattamento di
nostra produzione.
Tunaggio rapido. Con un pre-set ottimale a meno di 1
secondo.
Questa unità può lavorare su tutti i tipi di carico senza
problemi, inclusi corti circuiti e circuiti aperti per un
tempo illimitato Il limite WSVR è di 50Watt.
Questo rende il generatore una soluzione ideale per
l’utilizzo in combinazione con la rete d’adattamento
modello GGK_MM2.
Tutti gli I/O sono isolati otticamente.
Segnali digitali a 24V, analogici a 10V fondo scala.
Connettore d’uscita tipo 7/16.
LED di diagnostica sul pannello frontale.
Ogni condensatore ha il suo potenziometro per la
limitazione HI – Low, settabile dall’utilizzatore.
Questa è un’altra caratteristica esclusiva del prodotto
Gambetti Kenologia.
36
37
LF/RF Controller
Il controllore GGK LF/RF è stato sviluppato per chi necessita
di controllare manualmente gli alimentatori della serie LF a
50 KHz o RF a 13,56 MHz nella versione di tipo blackbox.
E’ un controllore semplice di tipo handheld ed è stato
sviluppato per controllare qualsiasi parameto degli
alimentatori della serie LF e RF, non necessita nessuna
alimentazione esterna in quanto è alimentato dallo stesso
generatore a cui è collegato.
Può anche pilotare i generatori della serie LF/RF attraverso
la porta di comunicazione RS232 (se interessati a questa
opzione dovete specificarlo in fase d’ordine).
Il controllore visualizza tutti i parametri del generatore a
cui è connesso, oltre agli allarmi o gli errori che possono
avvenire durante l’utilizzo, è dotato di un displey LCD a 4
linee e 20 colonne.
Caratteristiche
Permette di controllare gli alimentatori GGK LF 500 e GGK
RF-15.
Parametri di controllo:
• Potenza erogata
• Potenza riflessa
• Setpoint
• Allarmi
• Stato
• Trasmissione RS-232
Servizi Gambetti
Assistenza Tecnica
Interveniamo in tempi rapidi su tutto il territorio nazionale.
Consulenza Applicativa
Pre e post vendita.
Usato Garantito
Prodotti di occasione sia nuovi sia usati e ricondizionati
che godono di garanzia.
38
Via A. Volta 27, 20082 Binasco (Milano)
Tel. +39 02 90093082 R.A. | Fax +39 02 9052778
info@gambetti.it
www.gambetti.it | www.plasmi.eu
oplàcomunicazione.it
G. Gambetti Kenologia S.r.l.

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