構ポリシラザンをシリカ源として作製されるシリカ膜およびPMMA・シリカハイブリッド膜のハードコート特性研究概要・成果 Introduction 端科学載技・加術推工進等機はバイオインスパイアード・ハイブリッド材料研究会〇北野誉幸（院生）、内山弘章（化学生命工学部化学・物質工学科助教）、幸塚広光（教授） H H ペルヒドロポリシラザン(PHPS) Si N H Si - N結合を骨格とし, Hを側鎖として持つ疎水性の無機高分子 H PC基板 H Si N H N Si H Si H Experimental H H N Si H Si H N Si Si H H H アンモニア水上曝露処理 H N 室温シリカ (SiO2) アルコキシド原料のシリカゲル膜よりも硬さと耐熱水性の点で優れている。 Result and Discussion 2 cm×4 cm×0.2 cm Mw 15,000 スピンコーティング・PMMA(Mw 15,000 & 996,000) ・PMMA：有機溶媒＝1：9 ・8000 rpm, 60 s PMMA保護膜/PC基板 140℃, 30 min (酢酸エチル溶媒) 140℃, 180 min (キシレン溶媒) スピンコーティング 5H 大学先西 Result and Discussion 膜厚 /μm 0.53 3.49 3.49 3.49 3.49 無断複関 PMMA保護膜/PC基板平均分子熱処理量Mw 15,000 140℃ (180 min) 996,000 140℃ ( 30 min) 996,000 140℃ ( 30 min) 996,000 140℃ ( 30 min) 996,000 140℃ ( 30 min) ハードコート層/PMMA(Mw 996,000)保護膜/PC基板上ハードコート層の厚膜化鉛筆硬度の向上 SiO2膜/PMMA保護膜/PC基板 PMMA保護層の厚膜化コーティング膜/PMMA保護膜/PC基板コーティング膜外観 SiO2膜 ― SiO2膜 PMMA(Mw 15,000) -SiO2膜 PMMA(Mw 996,000) -SiO2膜無色透明、亀裂なし無色透明、亀裂なし無色透明、亀裂なし無色透明、亀裂なし無色透明、亀裂なし膜厚 /μm 0.56 ― 0.56 1.3 1.7 鉛筆硬度の向上鉛筆硬度 F ＜9B H H H 剥離率 (%) 0 0 0 0 0 。 SiO2膜/PMMA保護膜/PC基板 PMMA-SiO2膜 Mw 15,000 Mw 996,000 5H 5H Mw 996,000 2H 写・転 PHPS膜/PMMA保護膜/PC基板アンモニア水上曝露処理・曝露時間 24 h SiO2膜 2H ・PHPS 20%キシレン溶液・1000 rpm, 60 s N ※ す応用分野、実用化可能分野ま・プラスチックス（とくにポリカーボネート）の表面に耐擦傷性を必要とする技術分野禁じ・ハードコート特性をさらに向上させることによって、自動車のウィンドシールドをガラスからプラスチックスに置き換え、車体の軽量化に寄与することも目指したい問合せ先：関西大学化学生命工学部幸塚広光 E-mail：kozuka@kansai-u.ac.jp 関人ORDIST 先端科学技術推進機構社会連携部産学官連携センター、知財センター