分析事例C0067 2006/06/06 2016/07/25 有機EL素子積層膜の膜密度・膜厚測定 X線反射率測定(XRR)で膜厚・密度の分析が非破壊で可能です 測定法 :XRR 製品分野 :照明・ディスプレイ 分析目的 :膜厚評価・形状評価 概要 有機ELディスプレイは自発光原理による高輝度、高精細カラー、薄型化等の利点を活かし、実用化が進 みつつあります。有機ELデバイスは有機膜を積層させて作製しますが、有機膜積層状態での有機膜分 析を行うことは困難でした。今回、XRR法を用いることによって、積層状態のまま、有機膜の膜厚測定お よび密度測定を行うことが可能となりました。 結晶質,非晶質を問わず、積層膜の膜厚および密度の分析が可能です。 データ ■有機ELデバイスの基本構造 ■有機ELの模式図 電極 有機層 電子輸送層 有機層 発光層 透明電極 ホール輸送層 ガラス基板 透明電極 ■XRR法による有機EL素子の膜厚・密度測定 シミュレーション結果 密度(g/cm3) 膜厚(nm) 電極 2.73 244.9 電極/有機層界面 2.40 7.6 100 臨界角度:密度 シミュレーション 測定値 X線反射強度(a.u.) Layer 101 10-1 振動振幅: 密度コントラスト 10-2 10-3 有機層 1.30 46.5 10-4 有機層 1.12 48.0 透明電極 6.76 112.9 基板 2.46 - 10-5 振動周期: 膜厚 10-6 0.35 0.85 1.35 1.85 2.35 2.85 2θ(deg) 分析サービスで、あなたの研究開発を強力サポート! TEL : 03-3749-2525 E-mail : info@mst.or.jp URL : http://www.mst.or.jp/
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